에칭의 작동 원리는 무엇입니까?

에칭 원리 : 일반적으로 에칭 또는 광화학 에칭이라고 불리우며, 판 만들기 및 개발에 노출 된 후에 에칭 된 영역의 보호 필름을 제거하고, 에칭 중에 화학 용액에 접촉하여 분산 부식 및 불규칙성 성형 효과의 영향을 달성하기 위해 에칭 중 화학 용액에 접촉하는 것을 말합니다.

또한 전통적인 가공 방법으로 처리하기 어려운 중량 감소 기기 패널, 명판 및 얇은 워크 피스 가공에 널리 사용됩니다. 프로세스 장비의 지속적인 개선 및 개발 후에는 항공, 기계 및 화학 산업에서 전자 시트 부품의 정밀 에칭 제품 가공에 사용될 수 있습니다. 특히 반도체 제조 공정에서 에칭은 필수 기술입니다.

에칭 프로세스 흐름 : 에칭 프로세스 방법 : 프로젝트는 그래픽에 따라 주식 크기 및 필름 도면을 준비합니다.→ 재료 준비→ 재료 청소→ 건조→ 필름 또는 코팅→ 건조→ 노출→ 개발→ 건조→ 에칭→ 스트리핑→ 제품 검사 및 배송.